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四靶磁控溅射镀膜机
用于磁控溅射镀膜。可一次完成工艺相同或不同的四个样品的镀膜任务。
磁控靶:4”(Ф100),4个
自转样品架:4个
极限真空度:5×10
-5
Pa
全程控镀膜工艺过程