等离子体偏转溅射镀膜机

采用等离子体偏转溅射技术，拥有极高的离子密度，适用于较厚膜层（10微米以上）的快速制备。

既可进行金属膜材的溅射，也可用于介质膜的溅射

3.5Kw等离子体源

3个Ф150mm溅射靶位

基片尺寸：Ф150mm，四片

极限真空度：进入10^-5Pa量级

镀膜真空度：100Pa~5×10^-2Pa可调

4路气体馈入