阴极表面改性设备

通过离子束的溅射沉积和溅射的双重作用的表面改性技术对阴极发射表面进行改性

真空室尺寸：Ф400×280 mm

极限真空度：进入10^-5Pa量级

基片架转速： 5～60rpm

基片加热温度：室温～600℃

二次电子的发射系数最大值：由1.35下降到0.8至1.0